- [檢測百科]分享:工業(yè)純鈦TA2的電解拋光/腐蝕工藝2025年05月22日 14:39
- 對工業(yè)純鈦TA2的電解拋光/腐蝕的電解液配方和工藝參數(shù)進(jìn)行了研究與優(yōu)化,得到的最佳電解液配方是90 mLHF,20 g(NH4)2S2O8,200 mL CH3CH2OH,360 mL H2O,與之匹配的工藝參數(shù)是拋光電壓50 V,電解液流量20 mL/s,拋光時(shí)間50 s,電解拋光/腐蝕后得到的試樣表面平整,組織清晰,無污染,且制樣時(shí)間短,較機(jī)械拋光/腐蝕有很大的進(jìn)步,采用該配方,調(diào)整相應(yīng)工藝參數(shù)便可電解拋光其他鈦合金材料。
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